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【解決方案】不可思議的晶圓厚度測量
點擊次數(shù):6288 更新時間:2017-04-14 打印本頁面 返回

Measuring the Nearly

Immeasurable

在柏林費迪南德布勞恩研究所生產(chǎn)的半導(dǎo)體激光和高頻放大器晶圓必須達(dá)到一個極度精密的層厚度。潔凈室工人使用WERTH多傳感器坐標(biāo)測量機監(jiān)督這個過程。該機配有色差傳感器,的無接觸捕捉所需的測量元素。

在柏林的費迪南德布勞恩研究所、萊布尼茲研究所。共有220名員工,其中包括110名科學(xué)家。開發(fā)和生產(chǎn)用于材料加工、醫(yī)療技術(shù)和精密測量技術(shù),以及其他二極管激光器產(chǎn)品。另一個重點是通信技術(shù)、 電力電子技術(shù)和傳感器的高頻零件的生產(chǎn)。

“該半導(dǎo)體激光器具有非常低的安裝高度,以及高精度的拋光和接觸力,”工藝技術(shù)部的Dr.Andreas Thies說這些。雖然這樣的激光不大于一粒米,但它可以輸出高達(dá)20瓦的連續(xù)波操作,或100瓦的快速脈沖波。

激光在光盤中的大約是500025000倍。這些特點,伴隨著在條件下的高可靠性,使得FBH激光器享譽。他們甚至在外太空試驗,例如,在下一代GPS衛(wèi)星的原子鐘。

光學(xué)有許多領(lǐng)域的應(yīng)用案例。在醫(yī)學(xué)技術(shù)中,他們通過激活一種定義的波長和受影響的被破壞細(xì)胞,在腫瘤細(xì)胞中建立的藥物來幫助治療的光動力療法。進一步的應(yīng)用包括光學(xué)精密測量,工業(yè)測量和材料處理(粘接、焊接、雕刻)。

晶圓的各種加工過程

微波技術(shù)的研究和開發(fā)工作和光電是對基本技術(shù)的基礎(chǔ)上完成的。利用外延(在單晶底面上放置的單晶半導(dǎo)體層),與所需的極薄的層的特征材料組裝在硅晶圓上。

使用現(xiàn)代工藝,晶圓要進一步加工,加工流程包括光刻方法,濕法和干法刻蝕工藝和金屬化的步驟。約2000片與微波電路,或10000個激光芯片,能夠組裝成4英寸晶圓。

1 在潔凈室里:員工使用3D多傳感器坐標(biāo)測量機,采用色譜聚焦傳感器測量晶圓厚度

在技術(shù)人員將芯片從晶圓分離并且把它們組裝到光電或者高頻原件之前,晶圓必須首先足夠薄,要做到這一點,它是粘附到載體材料,然后經(jīng)過研磨拋光達(dá)到定義的尺寸。Dr.Andreas Thies 是在FBH的工藝技術(shù)專家并且負(fù)責(zé)潔凈室工作。他解釋說,"晶圓的厚度是組件可用性的一個重要指標(biāo)。作為一項規(guī)則,晶圓是底面下從初始厚度350 μ m 到盡可能少的 100 μ m,根據(jù)不同的應(yīng)用。 4 英寸晶圓制成的砷化鎵 (GaAs) 或氮化鎵 (GaN),是高頻應(yīng)用的材料,它大約兩個小時為砷化鎵,并且更長時間的氮化鎵。

要達(dá)到的目標(biāo)厚度,晶圓必須多次測量。直到zui近,這個過程的測量都是接觸式測量的。

這種方法的工作原理如下,在它被粘到一個載體之前要測量晶圓的厚度。經(jīng)過膠粘后,它要再次測量,兩個測量值之間的差異可以用來近似于層厚度。這是用來計算原料已被除去研磨后的晶圓的厚度。

因為這種方法不是特別,負(fù)責(zé)的各方?jīng)Q定購買一臺測量機,將提供的結(jié)果和工作,盡可能不接觸。他們的選擇是一個Videocheck 400 x 200 x 200 3D-CNC,用色譜聚焦探頭(CFP)(圖1)。這種來自Werth測量技術(shù)的3D CNC多傳感器坐標(biāo)測量機,是非常的,因其*的預(yù)裝操作系統(tǒng)。該videocheck系列設(shè)備的概念允許組合各種傳感器適用相應(yīng)的應(yīng)用(圖2)。除了包含在基本版本的圖像處理傳感器,各種機械配件,接觸探針系統(tǒng),的3D光纖探針傳感器,距離傳感器、激光傳感器等等都可以集成進來

色譜聚焦傳感器-專業(yè)用來測量晶圓

整套的色譜聚焦探頭測量晶圓的厚度。它是專門開發(fā)用來測量非接觸,有光澤,反射和透明的材料。因此,該傳感器特別適合于光學(xué)元件,如反射鏡和透鏡。能夠測量半導(dǎo)體,如通常不是透明到白光的晶圓,在紅外范圍內(nèi)使用特殊的變體,其光能穿透半導(dǎo)體材料(圖3)。在材料的邊界的每個邊界表面的物理的影響,產(chǎn)生干涉,這將用于計算的晶圓的層厚度。該傳感器的關(guān)鍵優(yōu)勢是它測量晶圓材料,并且忽略膠層,任何金屬層,和前面的電氣結(jié)構(gòu)。” Dr.Andreas Thies解釋。

整個測量可以快速建立和執(zhí)行。工程師首先把待測的晶圓放置在X-Y工作臺上的固定裝夾裝置上面。然后使用電腦中的WinWerth測量軟件,選擇合適的位置并輸入所需的基本信息關(guān)于尺寸大小和晶圓的材料。Dr.Andreas Thies更準(zhǔn)確地說,“我們可以測量砷化鎵,鎵氮化硅,藍(lán)寶石,硅,碳化硅。這些是我們的主要材料。對于其他材料,可以輸入折射率。輸入測量樣本的大約厚度(估計尺寸為50μm)。為了加快了測量速度,現(xiàn)在的操作者只需按開始,機器就開始測量過程。該傳感器在兩條通過中心的方向掃描晶圓,一條從X方向,一條從Y方向。傳感器每一次探測,顯示在屏幕中測量晶圓層厚。工人們發(fā)現(xiàn)它實際能夠直接在設(shè)備上的PC中分析數(shù)據(jù)。使用寫好的程序,層厚度分布情況被計算并且圖形化顯示出來。測量一件70mm的晶圓需要約2分鐘。用戶可以看到一個的晶圓厚度分布圖像,如果需要的話,還可以繼續(xù)一遍。

非接觸測量-防止損壞

當(dāng)與敏感的晶圓工作時,在機械加工過程中有輕微的機械損傷,如細(xì)裂紋。接觸測量會引起晶圓的進一步損害,由于接觸壓力,使其*無法使用。然而,如果測量可以不接觸,那么這個加工過程繼續(xù)盡管有輕微損壞。在大多數(shù)情況下,在晶圓上的芯片的一大部分仍然可以使用。

CFP傳感器不是用在FBH實驗室的*工具。具有光路作為標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備的VideoCheck IP,使硅晶圓的檢驗具有較高的分辨率和精度。變焦光學(xué)可以通過使用操縱桿CNC控制器或手動定位和聚焦。各種變焦裝置可以選擇所需的放大倍率。通過不同的光路對測試對象進行照明,可以檢測不同的任務(wù)。照明的角度,與多環(huán)暗場的入射光,例如,是邊緣突出,那么其粗糙度可以評估。垂直照明,利用光波的入射光,可以用來檢查表秒是否已被顆粒污染。

AndreasThies博士也采用這種靈活的工具“拍攝”測試的零件,“在短短的幾分鐘,我得到了被檢測的晶圓的非常高分辨率的光柵圖像,并且*自動。大量的單個圖像被記錄在一個定義的光柵,然后合并形成一個更大的圖像,這使得生成的圖像顯示到晶圓zui的細(xì)節(jié)。這是一個很好的科學(xué)研究的基礎(chǔ)。”

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